您现在的位置:
近日，第五届国际商标标志双年奖颁奖典礼在第十届中国北京(北京商标注册,北京商标注册代理)国际高科技产业博览会（简称：科博会）现场正式举行。
本届国际商标标志双年奖颁奖典礼为第十届科博会打了个开门红，来自上海(上海商标注册)、深圳(深圳商标注册)、广州(广州商标注册)、香港、台湾等全国各地的获奖者纷纷赶到颁奖现场，为展场增添了热烈的气氛。
颁奖仪式的主题为“设计立国”，颁奖活动成功举办于第十届科博会现场，体现出国家对创意设计的高度重视与支持，这一举措振奋了设计师的自信心，也为双年奖在新时期、新领域的发展上树立了新的里程碑。
国际商标标志双年奖由CCII国际设计中心设立，已成功举办了4次。此奖项的设置旨在通过对国内外成功品牌形象及设计理念的分析与研究，努力探索出适合中国设计成长与发展的生存之道，同时将优秀的国际设计成果介绍给中国的设计界与企业界。
在颁奖仪式上，国际商标标志双年奖创始人任宝华先生对这一奖项做了详细阐述。他重点强调作品的原创性，只有原创的才是最有价值的。而通过奖项、培训、认证等活动挖掘、培养更多的具备原创能力的设计人才，这是CCII国际设计中心十余年来“设计立国”的具体体现。
获奖代表也在颁奖仪式上纷纷发言，金奖获得者阮红杰表示非常感谢CCII国际设计中心为他们提供了这样专业而权威的竞技平台，使他们的才华得以绽放，同时也是与设计同仁交流最好的平台。他表示将与CCII国际设计中心继续保持一致战线，为“设计立国”的理念继续奋斗。全场大奖获得者蔡世伟先生表示，中国设计行业的发展方兴未艾，他感谢CCII国际设计中心为设计行业树立了标杆，希望CCII国际设计中心能够为中国设计走出一条成功之路。
